溅射靶材表面氧化物和杂质如何进行处理

　　溅射成膜的生产工艺中，由于靶材表面洁净度不高，通常会在靶材溅射表面累积些从几微米到几毫米大小的黑色氧化物，这些异物被认为是IN或SI的不完氧化物，般称之为结瘤。结瘤具有缘性，结瘤量增加，多引发溅射过程中的异常放电，使ITO膜出现粒状物，影响成膜质量。随靶材表面结瘤异常的增加，需要中止溅射操作，对溅射靶材表面的结瘤进行清洁再生产处理，但由于清洁不够切底，溅射靶材洁净度不高，在溅射生产过程中又会很快出现结瘤，这样造成生产作业不连续，导致生产率下降。即使去除了结瘤，反复进行再生处理也很难恢复到新靶材的状态，这样造成种结果，就是靶材在用尽以前会因为结瘤的增加导致靶材废弃。正因如此，需要改进溅射靶材的清洁方法，提高靶材的洁净度。
　　
　　目前对溅射靶材的表面进行处理时，主要利用砂纸对靶材表面进行打磨，再使用气枪吹除粉尘颗粒和碎肩，或采用无残留胶带粘除。使用气枪吹除很容易造成无尘车间的污染，而采用无残留胶带的方式不仅增加了制造成本，而且不能将所有杂质都粘除，难以提高溅射靶材的洁净度，例如大的颗粒或在缝隙里的粉尘都是无残留胶带难以粘除干净的。
　　
　　针对现有溅射靶靶材去除杂质技术存在之缺失，研发使用ITO薄膜溅射靶材的清洁方法，这种方法能有减少溅射靶材表面的氧化物和杂质，提高靶材表面洁净度，进而提高靶材的利用率。

　　

　　般溅射靶材通过采用砂纸对靶材表面进行打磨，并且顺应靶材的跑道方向，可有去除靶材表面的氧化物和杂质，同时可以避免些灰尘落于缝隙中。在打磨后采用吸尘器对靶材表面的颗粒物或粉尘进行清洁，不仅可以清除较大的颗粒物和粉尘，也可以清除落入到缝隙中的粉尘，提高了靶材表面的洁净度，同时采用吸尘的方式也可以避免粉尘污染无尘车间的情况。
　　
　　 后采用无尘布蘸取少量酒精对靶材的表面进行擦拭，进步提高靶材的洁净度。由此，清除了溅射靶材表面氧化物、杂质和粉尘，进而可减少ITO薄膜生产中靶材表面结瘤，降低异常放电次数，也减少了对靶材的清洁次数，提高了生产率，也提高了靶材的利用率，降低了生产成本。同时，氧化物和杂质的减少，也降低了对ITO薄膜表面阻值、雾度、透过率影响，提高了产品质量。

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